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磷化氢(PH3):用于半导体工业中化合物半导体的沉积和某些化学品的生产。Purity:99.999%~99.9999%
三氟化氮(NF3):半导体工业中用作化学气相沉积 (CVD) 室的清洁气体。纯度:99.99%
氖是一种无色、无嗅、无味的气体。它在室温下呈气态,是一种惰性气体。它的熔点为 -248.67°C 和
甲基硅烷(CH3SiH3):在半导体生产中用作硅薄膜沉积的前驱气体。纯度:99.99%
氪是一种无色、无臭、无味的气体。沸点为-153.35℃,大气中的氪含量极低(1.14×10-6
氟化氢(HF):广泛应用于半导体工业,用于蚀刻二氧化硅和其他材料。纯度:99.99%
溴化氢(HBr):用于各种有机合成反应,在某些化学过程中用作催化剂。纯度:5N
卤化碳 c318,C4F8 又称八氟环丁烷,是一种由碳原子和氟原子组成的无色、无味、不可燃的气体。它常用于各种工业
八氟丙烷(C3F8):主要用作低温应用中的制冷剂和气雾罐中的推进剂。纯度范围为 99.99% 至 99.999%。
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