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氙的化学式为 kr,是相对原子质量最大、密度最高的天然惰性气体。主要
六氟化钨(WF6):用作半导体制造中钨薄膜沉积和钨化合物生产的前驱气体。纯度:99.999%
三甲基硼(B(CH3)3):在沉积含硼薄膜的化学气相沉积 (CVD) 过程中用作前驱体。纯度:99%
三氯硅烷(SiHCl3):生产半导体制造用超纯硅的主要前体。纯度:99.9%
六氟化硫(SF6):六氟化硫(SF6):被广泛用作高压应用中的电绝缘体、开关设备中的绝缘气体以及镁和镁合金的生产。
二氧化硫在常温下为无色气体,有刺激性气味。它具有很强的渗透性,能迅速渗透到各种缝隙中,并具有以下特点
四氟化硅(SiF4):用于半导体制造中硅的生产,以及有机合成中的氟化剂。纯度 99.99%
四氯化硅(SiCl4):用于生产半导体制造所需的硅以及合成有机硅化合物。纯度:99.99%
硅烷是硅和氢的化合物,包括单硅烷(SiH4)、二硅烷(Si2H6)和一些高阶硅氢化合物。其中,单硅烷最为常见,而
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