高纯电子气体 - 第3页共4页 - 上海华源空气化工有限公司

卤烃 116（C2F6）：用于半导体工业的等离子体蚀刻工艺和制冷剂。纯度：99.99%。

卤化碳 32（CH2F2）：常用作制冷剂和生产含氟聚合物的前体。纯度：99.9%

三氟甲烷（CHF3）：在半导体工业中用作清洁气体和制冷剂。纯度范围通常为 99% 至 99.999%。

卤化碳 14（CF4）：在半导体工业中广泛用作等离子蚀刻气体和制冷剂。纯度：99.999%。

锗（GeH4）：用于半导体生产，尤其是锗薄膜的沉积。纯度：99.999%

二硅烷（SiH3）2：主要用于半导体工业的硅层外延生长。纯度：99.999%。

二氯硅烷（SiH2Cl2）：用于生产半导体材料，以及在化学气相沉积（CVD）过程中作为硅沉积的前驱体。纯度：2N~3N

二硼烷是一种由硼原子和氢原子组成的化合物，分子式为 B2H6。这种物质在室温下极不稳定

氯的化学式为 Cl2，是一种有毒气体。它主要用于高科技领域，如大规模集成电路、光学、电子和电子元件等。

分类：高纯电子气体